2024/02/08 引用元：日本経済新聞続きを読む

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みんなの反応・コメント 2件

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フコクプロテクトライン（FPL副部長） 2024年2月8日 6:56

日本経済新聞 TOPPANホールディングスは7日、米IBMと次世代半導体の回路形成に使う原版「フォトマスク」を開発すると発表した。回路線幅が2ナノの半導体製造に使い、2026年の量産開始を目指す。 nikkei.com/article/DGKKZO…

いまおか 2024年2月8日 3:04

日本経済新聞 nikkei.com/article/DGKKZO…