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ニコン、後工程向けの新型露光装置 処理速度3割向上めざす - 日本経済新聞

 2026/06/10  引用元:日本経済新聞  続きを読む
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2026/06/10、『日本経済新聞』が報じたこのニュースに5件のコメントが寄せられています(2026/07/09 08:03現在)。
記事公開から4週間以上経過していますが最新のコメントは2026年6月11日に寄せられています。 また、「ニコン」の企業・マーケット情報などについて言及しているコメントがあります。記事は4週間以上前に公開され28日前にコメントが付けられている状況で比較的最近も関心を集めているようです。

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みんなの反応・コメント   5件

おすすめ順 | 新着順
山田信雄 6月11日 7:07
日本の半導体関連企業を知っておきたいが、化学・機械・金属など広範囲に存在するな。 ニコン、半導体の後工程向け新型露光装置 処理速度3割向上めざす日本経済新聞 nikkei.com/article/DGXZQO…
ずーぼ@半導体業界ドットコム 6月11日 5:16
ニコン、半導体の後工程向け新型露光装置 処理速度3割向上めざす日本経済新聞 nikkei.com/article/DGXZQO…
kabe 6月11日 2:55
ニコン、半導体の後工程向け新型露光装置 処理速度3割向上めざす日本経済新聞 nikkei.com/article/DGXZQO… ニコンは半導体デバイス組み立ての「後工程」向けに処理の早い露光装置を開発する。従来より描ける回路線幅は広くなるが、処理速度を30%上げるのをめざす
カフェイン☆中毒 6月10日 18:13
日本経済新聞 nikkei.com/article/DGXZQO… ニコンは半導体デバイス組み立ての「後工程」向けに処理の早い露光装置を開発する。 従来より描ける回路線幅は広くなるが、処理速度を30%上げるのをめざす。2027年度の発売を予定する。
GRAIL 6月10日 18:06
日本経済新聞 nikkei.com/article/DGXZQO…

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